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文檔簡介
1、霍爾推力器是一種先進的電推力器,具有高效率、高精度及高比沖等優(yōu)點,廣泛應(yīng)用于航天器的推進任務(wù)。霍爾推力器放電通道壁面材料的優(yōu)化布置會對通道內(nèi)等離子體物理過程產(chǎn)生影響,而磁場強度及磁場位形能夠約束電子的軸向傳導(dǎo),控制推力器的電導(dǎo)率及電勢分布,進而對其性能產(chǎn)生影響。由于放電通道等離子體與壁面相互作用強,需要進一步探索其物理機理,因此,研究霍爾推力器通道壁面材料布置及磁場優(yōu)化具有重要意義。
本文根據(jù)霍爾推力器放電通道結(jié)構(gòu)建立二維軸對
2、稱物理模型,采用粒子模擬方法數(shù)值研究了通道出口處分割高發(fā)射碳化硅材料對推力器放電特性的影響。結(jié)果表明:通道出口處分割高發(fā)射碳化硅絕緣材料使徑向電勢降及離子徑向速度減小,壁面腐蝕減少。隨分割長度增加,電子與壁面碰撞頻率和電離率逐漸升高,電子溫度逐漸降低,比沖略有升高,放電電流在分割長度達到5mm時急劇升高。與分割低發(fā)射絕緣壁面的研究結(jié)果進行對比,在分割長度為3mm時,分割高發(fā)射絕緣壁面放電電流相對較小,效率較高。
根據(jù)ATON型
3、霍爾推力器磁場線圈參數(shù),在保持磁場位形不變情況下,數(shù)值研究了磁場強度對通道放電特性的影響。結(jié)果表明:當推力器中軸線最大磁場強度小于0.020 T時,磁場無法有效地約束電子的軸向傳導(dǎo),電離主要發(fā)生在陽極附近。當推力器中軸線最大磁場強度大于0.020 T時,隨著磁場強度的增大,電子溫度、電離率和電子與壁面碰撞頻率逐漸降低,離子徑向速度逐漸增大,加速區(qū)先縮短后延長,放電電流先減小后增加,推力基本不變。當推力器中軸線最大磁場強度為0.028 T
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