小角度XRD的實現(xiàn)及應(yīng)用.pdf

1、隨著大規(guī)模集成電路集成度的提高、太陽能電池板的產(chǎn)業(yè)化發(fā)展以及納米級別薄膜制備技術(shù)的飛速發(fā)展,半導(dǎo)體電子器件正逐步向小型化、薄膜化方向發(fā)展,高精度無損薄膜測試技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)迫在眉睫。一方面,由于常規(guī)的無損測量技術(shù)如光學(xué)干涉法測量厚度,這種方法只能測試透明的,厚度均勻的固態(tài)薄膜,因此無法滿足目前器件工藝的測試要求。而另一方面,由于小角X射線衍射所獲得的樣品表面的的信息主要來自薄膜1-10nm內(nèi)的信息,可以精確測定納米數(shù)量級薄膜樣品的膜厚和結(jié)

2、構(gòu)信息。
　　小角X射線衍射技術(shù)因為其制樣方便,實驗后樣品不被破壞并且測得的樣品的信息具有精度高,以及測量速度快等特點,被認(rèn)為是目前測量薄膜結(jié)構(gòu)信息的主要手段。但是由于國外具有小角X射線衍射功能的儀器價格昂貴,而國內(nèi)的X射線衍射儀絕大部分不具有小角X射線衍射的功能。因此有必要開發(fā)一種低成本的小角X射線衍射技術(shù)。
　　論文分析了小角X射線衍射的原理、X射線衍射儀的組成和工作原理,在此理論基礎(chǔ)上逐步實現(xiàn)了低成本小角X射線衍射技術(shù)