量子點(diǎn)器件工藝與材料體系的優(yōu)化研究.pdf

1、由于量子點(diǎn)具有較窄的發(fā)射半峰寬、較高的量子產(chǎn)率等優(yōu)異的光學(xué)性質(zhì)和電學(xué)性質(zhì)，在光電領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。通過(guò)溶液法制備量子點(diǎn)薄膜具有操作簡(jiǎn)單及環(huán)境友好性等優(yōu)勢(shì)。其中，噴墨打印法具有襯底選擇靈活性和可直接圖案化等優(yōu)點(diǎn)。本文主要利用噴墨打印法制備CdSe/ZnS量子點(diǎn)薄膜，利用浸漬提拉鍍膜法制備CsPbBr3量子點(diǎn)薄膜及復(fù)合薄膜，并基于此研究了量子點(diǎn)的可打印性、穩(wěn)定性及光學(xué)性能等有關(guān)量子點(diǎn)器件工藝與材料體系的優(yōu)化。主要內(nèi)容如下:
　　

2、(1)為了研究影響噴墨打印制備CdSe/ZnS量子點(diǎn)單點(diǎn)薄膜形貌及穩(wěn)定性的因素，實(shí)驗(yàn)討論了不同襯底和不同溶劑體系的影響。研究表明不同襯底的表面能色散分量決定了打印的單點(diǎn)薄膜的尺寸，進(jìn)而驗(yàn)證了通過(guò)調(diào)節(jié)表面能色散分量來(lái)調(diào)控單點(diǎn)尺寸具有一定可行性。對(duì)于不同溶劑體系，通過(guò)定義噴墨打印穩(wěn)定性參數(shù)Z值，得到最優(yōu)打印量子點(diǎn)的溶劑體系所需具備的Z值。此外，利用噴墨打印法在藍(lán)光LED上制備量子點(diǎn)薄膜實(shí)現(xiàn)光致發(fā)光。
　　(2)采用計(jì)算機(jī)輔助表征手法，

3、量化表征了混合溶劑體系的水溶性CdSe/ZnS量子點(diǎn)噴墨打印的穩(wěn)定性，得到最優(yōu)材料體系并應(yīng)用于二維碼的打印及襯底表面的探測(cè)?；诩{米材料在微液滴中的組裝行為，及其在溶劑干燥后的堆積形貌與襯底表面的物理和化學(xué)特性之間的相關(guān)性，提出了噴墨打印落點(diǎn)偏移的特征參數(shù)(r)與納米材料自組裝模式的特征參數(shù)M的獲取與計(jì)算步驟，提供了一種可靠高效的檢測(cè)襯底表面特性方法。
　　(3)采用高溫?zé)嶙⑷敕ㄖ苽涞腃sPbBr3量子點(diǎn)發(fā)射半峰寬較窄(21nm)