基于二值振幅相位調(diào)控的線聚焦超衍射器件研究.pdf_第1頁
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文檔簡(jiǎn)介

1、近年來,隨著生物、醫(yī)藥、材料和電子等領(lǐng)域的發(fā)展,亟需一種遠(yuǎn)場(chǎng)超分辨成像和超衍射聚焦技術(shù)。然而,傳統(tǒng)光學(xué)由于衍射極限的存在,聚焦光斑和基于白光(400nm-780nm)照明成像系統(tǒng)的分辨率僅為工作波長的一半,難以滿足相關(guān)領(lǐng)域的發(fā)展。因此,實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)場(chǎng)超分辨成像和超衍射聚焦具有重大科學(xué)意義和應(yīng)用前景。
  本文依據(jù)超振蕩思想,提出一種基于二值振幅-相位調(diào)控的超衍射遠(yuǎn)場(chǎng)聚焦方法;基于矢量角譜衍射方法和粒子群優(yōu)化算法,采用二值振幅相位調(diào)控,對(duì)

2、線聚焦超振蕩光學(xué)器件的透射比函數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì)。器件理論設(shè)計(jì)結(jié)果:焦距為150λ(94.9μm),焦斑半寬為0.38λ(240nm),旁瓣比為25%;采用COMSOL Multiphysics軟件對(duì)線聚焦超振蕩光學(xué)器件進(jìn)行仿真,驗(yàn)證了器件的聚焦性能,器件仿真結(jié)果:焦距為150.24λ(95.1μm),焦斑半寬為0.392λ(248nm),旁瓣比為23%;利用電子束光刻等加工技術(shù),完成了器件的加工;最后采用掃描探針對(duì)器件進(jìn)行了測(cè)試,器件測(cè)

3、試結(jié)果:焦距為148λ(94μm),焦斑半寬為0.406λ(257nm),旁瓣比小于22%;經(jīng)超振蕩判據(jù)分析,該焦斑為超振蕩聚焦。
  本文的主要工作具體如下:
 ?、俳榻B研究超衍射聚焦的意義和背景、光學(xué)超振蕩概念,并分析了超振蕩聚焦器件國內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀,以及目前存在的科學(xué)與技術(shù)問題,提出設(shè)計(jì)長焦距、小旁瓣聚焦光斑的方法。
 ?、诮榻B線偏振光矢量角譜衍射的相關(guān)理論和粒子群優(yōu)化算法。
 ?、刍谑噶拷亲V衍射方法和粒子

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