高溫涂層光學(xué)特性的研究.pdf

1、針對傳統(tǒng)磁控濺射方法沉積氮化鈦涂層時存在沉積溫度高、等離子體密度低;而沉積氧化鋁薄膜時，條件范圍很窄，較難控制，同時也很難獲得高純度的氧化鋁薄膜的缺點。本文提出了一種新型的等離子體輔助脈沖直流磁控濺射方法，利用該方法制備涂層時，濺射過程始終處于穩(wěn)定運(yùn)行的高濺射速率金屬模式，反應(yīng)未完全的涂層在經(jīng)過等離子體區(qū)時進(jìn)一步被完全氧化，得到高化學(xué)計量比的涂層;同時在氬離子的轟擊作用下，增加了膜層的致密性。本文利用該方法制備了氮化鈦涂層和氧化鋁薄膜，

2、并研究了等離子體源功率大小對氮化鈦涂層和氧化鋁薄膜的結(jié)構(gòu)、形貌、光學(xué)特性、高溫特性等的影響規(guī)律。
　　研究結(jié)果表明，利用該方法在低溫條件下制備的氮化鈦涂層呈TiN(111)晶面取向，等離子體的引入明顯降低了氮化鈦涂層表面粗糙度，氮化鈦顆粒較細(xì)且均勻，并提高了氮化鈦涂層光譜選擇特性。
　　利用該方法制備氧化鋁薄膜，等離子體功率的調(diào)節(jié)對氧化鋁薄膜的光學(xué)特性有明顯的改良作用。所沉積的氧化鋁薄膜濺射沉積速率快，沒有吸收，并且表面光滑