高功率532nm相干光的二次諧波產(chǎn)生.pdf

1、本論文報告了高功率穩(wěn)定的532nm相干光源研制的實驗成果，所研制的相干光源是供壓縮態(tài)光場產(chǎn)生實驗所用，其光功率要求為300mW左右，功率穩(wěn)定時間在小時量級。
　　壓縮態(tài)光場是一種非經(jīng)典光場，它在高精度光學測量、亞散粒噪聲光學測量、量子通信等領域有著廣泛應用前景。
　　作者基于光學二次諧波產(chǎn)生，利用光學諧振腔能提高光學二次諧波轉換效率為中心設計了一套二倍頻系統(tǒng)方案，制作了實際系統(tǒng)中所需的光、機、電等關鍵技術單元模塊。全文圍繞光

2、學諧振腔的實驗方案展開論述，簡述了非線性光學中的二次諧波產(chǎn)生、光學諧振腔的作用、高斯光束的基本特征參數(shù)與自再現(xiàn)變換的推導過程，并以上述幾點為根據(jù)設計出光學諧振腔的機械機構、計算出腔鏡理論上最佳的參數(shù)、光學諧振腔模式匹配關鍵光學元件的參數(shù)。實驗上重點分析了二次諧波效率的制約因素（包括基頻光的方向與偏振態(tài)的穩(wěn)定性、光路中電子學部分工作時間、晶體控溫效果等），并以此為依據(jù)修改實驗方案。最終該套二倍頻系統(tǒng)在引力中心的山洞實驗室內經(jīng)HC鎖定技術實