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1、電子探針微區(qū)分析(EPMA,XRMA)由于X射線激發(fā)深度較大而對(duì)薄層分析產(chǎn)生困難,無(wú)法準(zhǔn)確確定分析結(jié)果是樣品表面的成分還是樣品體相的成分.該工作首先從理論上探討了薄膜產(chǎn)生全反射的條件,然后在通常的X射線微區(qū)分析設(shè)備上,采用外全反射角X射線能譜微分析方法,通過(guò)對(duì)硅襯底上不同膜厚的鋁膜和銅膜的測(cè)定,探索出一種區(qū)分膜成分和體相成分的新方法.該論文共四章:其主要內(nèi)容如下:第一章:緒論.對(duì)X射線微區(qū)分析的原理和近年來(lái)薄層分析的研究現(xiàn)狀進(jìn)行了簡(jiǎn)要回
2、顧.第二章:首先從理論上探討了X射線發(fā)生全反射的條件,然后利用現(xiàn)有的X射線微區(qū)分析設(shè)備對(duì)硅襯底上不同膜厚的鋁膜和銅膜進(jìn)行了研究測(cè)定,探索出發(fā)生外全反射的條件和區(qū)分膜成分和體相成分的方法.第三章:對(duì)在不同低出射角條件下所獲得的X射線能譜不同線系的X射線相對(duì)強(qiáng)度進(jìn)行了研究.得出了在不同出射角采集的X射線譜中各線系強(qiáng)度間比值變化和引起這種變化的原因,這就為外全反射X能譜薄層分析中的定量分析提供了一定的依據(jù).第四章:利用外全反射X射線微區(qū)分析這
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