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1、隨著科技的飛速發(fā)展,人們對(duì)各種晶體光學(xué)器件的要求也越來(lái)越高,各種新技術(shù)不斷被應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域,其中有關(guān)光束在晶體中傳播的相關(guān)性質(zhì)的研究正逐漸引起人們的極大興趣,因?yàn)樗乾F(xiàn)代光學(xué)儀器設(shè)計(jì),加工領(lǐng)域一個(gè)重要的理論問(wèn)題,如對(duì)光在不同類(lèi)型晶體界面上的折射率和反射率的研究,反映了光能量的損耗情況,對(duì)晶體光學(xué)器件的設(shè)計(jì)、加工起著至關(guān)重要的作用。
1.分析了單軸晶體光軸任意情況下,非常偏振光從各向同性介質(zhì)入射到晶體表面時(shí)的折射與反射。利用
2、單軸晶體的折射率面,通過(guò)幾何作圖法,對(duì)反射光和折射光的位置進(jìn)行了確定,利用電磁場(chǎng)的邊界條件推導(dǎo)出了反射系數(shù)和透射系數(shù),利用電磁場(chǎng)能量密度和光強(qiáng)理論推導(dǎo)出了反應(yīng)入射光、折射光、反射光能量關(guān)系的反射率和透射率的表達(dá)式。
2.分析了入射面為主軸截面情況下,非常偏振光從各向同性介質(zhì)斜入射到雙軸晶體界面時(shí)的反射與折射。利用雙軸晶體的折射率面,通過(guò)幾何作圖法,對(duì)反射光和折射光的位置進(jìn)行了確定,利用電磁場(chǎng)的邊界條件推導(dǎo)出了反射系數(shù)和透射
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