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1、本文是按照電離層探測(cè)，數(shù)據(jù)處理和模型建立的順序來論述的，在此基礎(chǔ)之上討論了電離層的結(jié)構(gòu)變化。闡述了電離層的垂直和斜向探測(cè)方法原理，并利用射線追蹤的方法合成了斜向探測(cè)電離圖。通過SAO軟件得到了電離層重要物理參量如F2層的臨界頻率和最大電子密度等。應(yīng)用POLAN程序和Kriging差值方法得到了電離層剖面。應(yīng)用人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)方法對(duì)準(zhǔn)拋物電離層模型進(jìn)行了重構(gòu)。應(yīng)用射線追蹤方法對(duì)幾種典型的電離層結(jié)構(gòu)變化進(jìn)行了分析，討論了電離層結(jié)構(gòu)對(duì)射線路徑的影
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