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文檔簡介
1、本文利用微波等離子體化學氣相沉積(MPECVD)方法，在經過金剛砂研磨并鍍鈦的硅(111)片上生長納米非晶碳薄膜,并通過掃描電子顯微鏡(SEM)，X射線衍射光譜(XRD)，拉曼光譜(Raman)，X射線電子能譜(XPS)等對薄膜的結構和形貌進行了分析?！ ”疚脑谥苽浼{米非晶碳膜時，使用的是微波微波等離子體化學氣相沉積(MPECVD)方法，在過渡層的選擇上，分別用Ni、Mo、Ti三種常見金屬，并測試其薄膜場發(fā)射性能?！ ”疚膶{米非晶
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