納米非晶碳膜的制備及場(chǎng)發(fā)射性能的研究.pdf_第1頁(yè)
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1、本文利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPECVD)方法，在經(jīng)過(guò)金剛砂研磨并鍍鈦的硅(111)片上生長(zhǎng)納米非晶碳薄膜,并通過(guò)掃描電子顯微鏡(SEM)，X射線衍射光譜(XRD)，拉曼光譜(Raman)，X射線電子能譜(XPS)等對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)和形貌進(jìn)行了分析?！　”疚脑谥苽浼{米非晶碳膜時(shí)，使用的是微波微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPECVD)方法，在過(guò)渡層的選擇上，分別用Ni、Mo、Ti三種常見金屬，并測(cè)試其薄膜場(chǎng)發(fā)射性能?！　”疚膶?duì)納米非晶

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