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文檔簡介
1、隨著電子封裝技術(shù)及封裝材料的發(fā)展,Sn-Ag-Cu系合金因其較低的熔點及較高的可靠性能等特點,目前已被公認(rèn)為傳統(tǒng)釬料的最佳替代品并取得了實際應(yīng)用。為了滿足電子產(chǎn)品微型化的需求,電子封裝中用于連接芯片和基板的焊球尺寸也不斷縮小。因此,在長期服役過程中,由于焊點尺寸變小及焊點老化而引起的元器件可靠性問題成為該領(lǐng)域研究人員關(guān)注的焦點。
本論文研究焊點尺寸、等溫時效及鎳鍍層對SAC305/Cu微焊點界面間化合物演變及鎳鍍層消耗速率的影
2、響。實驗選用Sn-3.0Ag-0.5Cu釬料球,直徑分別為200μm、300μm、400μm、500μm,分別在銅盤和鍍鎳銅盤上進行焊接,然后在100℃、130℃、160℃下分別時效0h、72h、144h、216h、360h后進行分析。
研究結(jié)果表明:SAC305/Cu焊點界面IMC呈現(xiàn)較明顯的尺寸效應(yīng),小尺寸焊點界面凹凸不平,化合物形貌為橢球形,晶粒尺寸較大且比較稀疏;隨著焊點尺寸的增加,化合物晶粒尺寸明顯變小,界面IMC層
3、變的平整均勻。焊點尺寸越大,界面IMC層厚度越薄;界面IMC的生長速率也越小。
時效溫度對SAC305/Cu微焊點界面IMC影響的研究結(jié)果表明,隨著時效溫度的升高,界面IMC層厚度及生長速率均不斷增大。時效時間越長,界面化合物層厚度越大,在回流焊后至?xí)r效72h,界面IMC層厚度增長的最快,界面IMC生長速率先是急劇增大,之后逐漸趨于平緩。在三個時效溫度下,從回流焊后至?xí)r效216h,焊點界面IMC為Cu6Sn5化合物,當(dāng)時效時間
4、超過360h時,界面處有少量的Cu3Sn化合物生成。
鎳鍍層對SAC305/Cu焊點界面IMC影響顯著。釬料與鍍鎳銅盤反應(yīng)生成的界面IMC的類型主要為(Cu,Ni)6Sn5化合物,時效一段時間以后,有一層較薄的(Cu,Ni)3Sn和少量的Ag3Sn化合物生成。界面IMC形貌由原來的致密平整變的凹凸不平,成鋸齒狀。鎳鍍層對焊點界面IMC生長有明顯的抑制作用,即降低界面IMC生長速率,使IMC層厚度變薄。不論焊點大小,回流焊及時效
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