衛(wèi)星導(dǎo)航芯片專利分散及應(yīng)對策略研究.pdf

1、近年來，隨著北斗衛(wèi)星導(dǎo)航系統(tǒng)的建立與日趨完善，北斗導(dǎo)航產(chǎn)業(yè)的發(fā)展受到了人們極大的關(guān)注。作為衛(wèi)星導(dǎo)航產(chǎn)業(yè)中核心的部分之一，導(dǎo)航芯片決定著衛(wèi)星導(dǎo)航產(chǎn)品的性能。我國的導(dǎo)航芯片企業(yè)從無到有，從弱到強(qiáng)，其專利申請已經(jīng)進(jìn)入了一個爆發(fā)式增長的階段。專利分散是指特定技術(shù)的專利由眾多的專利權(quán)人分別持有，是導(dǎo)致專利叢林產(chǎn)生的重要因素之一，測量是否產(chǎn)生專利分散，探索專利分散趨勢產(chǎn)生的原因，對于我國高新產(chǎn)業(yè)的自主創(chuàng)新具有重要意義。
　　本文通過研究專利分

2、散理論，評價專利分散的測量方法，對我國和美國的衛(wèi)星導(dǎo)航芯片領(lǐng)域的專利分散度進(jìn)行測量，通過比較分析兩國產(chǎn)生分散的不同原因，為我國衛(wèi)星導(dǎo)航芯片領(lǐng)域廠商的發(fā)展提供信息支持和對策建議。筆者對衛(wèi)星導(dǎo)航產(chǎn)業(yè)進(jìn)行了分析，選擇導(dǎo)航芯片領(lǐng)域作為研究的切入點(diǎn)，提出研究假設(shè)，通過評價現(xiàn)有專利分散的測量方法，應(yīng)用赫芬達(dá)爾指數(shù)和破碎化指數(shù)對我國和美國的衛(wèi)星導(dǎo)航芯片領(lǐng)域進(jìn)行了實(shí)證研究。研究表明，我國和美國的衛(wèi)星導(dǎo)航芯片領(lǐng)域都存在專利分散趨勢，并且兩國之間的分散過程