近場散射測量方法研究.pdf

1、近場測量具有測試精度高、信息量大、保密性強(qiáng)、可全天候工作等優(yōu)點(diǎn)，是研究目標(biāo)散射特性的重要方法。傳統(tǒng)的雙探頭共平面近場散射測量方法耗時(shí)多，對(duì)于復(fù)雜目標(biāo)來說已經(jīng)達(dá)到了不可容忍的程度。為了能夠快速準(zhǔn)確的得到目標(biāo)的雷達(dá)散射截面，本文結(jié)合了近場測量理論和雷達(dá)成像理論，提出了兩種快速近場散射測量的方法。論文的主要工作如下：
　　首先，簡述近場散射測量和雷達(dá)成像的基本理論。介紹了天線的近遠(yuǎn)場概念、近場測量技術(shù)、雷達(dá)散射截面概念、高頻散射中心概念

2、、雷達(dá)成像技術(shù)和窗函數(shù)。
　　其次，研究基于雷達(dá)成像原理的近場散射測量方法。該方法以高頻散射中心理論為依據(jù)，用計(jì)算機(jī)分別對(duì)二維離散散射中心目標(biāo)、二維連續(xù)散射中心目標(biāo)、三維離散散射中心目標(biāo)進(jìn)行建模，利用雷達(dá)成像的方法得到目標(biāo)散射中心的強(qiáng)度和位置分布，并以此計(jì)算目標(biāo)的雷達(dá)散射截面。同時(shí)，研究了窗函數(shù)在成像中的應(yīng)用，并對(duì)測量結(jié)果進(jìn)行誤差分析和補(bǔ)償技術(shù)研究。
　　最后，研究單站近場散射測量方法。該方法利用了雷達(dá)成像的基本測量方法，得