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![保溫式多功能離子化學(xué)熱處理裝置和工藝研究.pdf_第1頁](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/16/16/b726572c-fb86-49cb-9814-5ada88d56017/b726572c-fb86-49cb-9814-5ada88d560171.gif)
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文檔簡介
1、本課題首先設(shè)計并研制了一套可用于規(guī)模生產(chǎn)的保溫式多功能離子化學(xué)熱處理裝置,然后在這套裝置上對離子氮碳共滲+后氧化復(fù)合處理以及活性屏離子滲氮技術(shù)進行了較深入的研究。 用AutoCAD對保溫式多功能離子熱處理裝置爐體的主體結(jié)構(gòu)、爐內(nèi)其它結(jié)構(gòu)以及液壓升降系統(tǒng)進行了設(shè)計和校核,從而為推廣應(yīng)用離子熱處理技術(shù)奠定了基礎(chǔ)。 通過調(diào)整乙醇和CO2與氨氣的不同流量的配比,對40Cr進行了離子氮碳共滲處理,并獲得了能得到最大化合物層厚度和最
2、高化合物層硬度的工藝參數(shù)。后氧化處理是在離子氮碳共滲基礎(chǔ)上進行的,用多種氧化形式進行了復(fù)合處理,以探索在氮碳共滲化合物層表面形成單一的Fe3O4膜的方法和工藝。通過電化學(xué)實驗和鹽霧腐蝕試驗,發(fā)現(xiàn)以利用爐內(nèi)余熱進行氧化復(fù)合處理且H2:O2=4:1的氣體比例處理的效果最佳。 本文還就活性屏離子滲氮時負偏壓的大小對滲層的影響進行了研究。試驗結(jié)果表明,當負偏壓低于300V時,只有距活性屏100mm以內(nèi)的試樣表面才有滲氮層形成;當負偏壓達
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