2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩78頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、本文采用閉合場(chǎng)非平衡磁控濺射離子鍍技術(shù)在不同的靶電壓、偏壓、占空比下制備了純Cr鍍層。通過(guò)原子力顯微鏡(AFM)、掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)和X射線衍射儀(XRD)分析了純Cr鍍層的微觀組織形貌和擇優(yōu)生長(zhǎng)取向;采用四點(diǎn)探針測(cè)試儀測(cè)量了純Cr鍍層的方塊電阻;利用CH1660B電化學(xué)工作站(極化曲線)分析了純Cr鍍層耐腐蝕性能的變化。探討了電參數(shù)的變化對(duì)磁控濺射純Cr鍍層組織結(jié)構(gòu)的影響機(jī)理。研究結(jié)果表明:隨著靶電壓的

2、增大,純Cr鍍層的厚度和沉積速率顯著增大。300V靶電壓下純Cr鍍層為嵌入有納米晶的非晶組織結(jié)構(gòu),400V和500V靶電壓下純Cr鍍層均為柱狀晶結(jié)構(gòu)。純Cr鍍層的組織結(jié)構(gòu)隨著偏壓值的增大由柱狀晶向細(xì)小、致密等軸晶轉(zhuǎn)變,同時(shí)鍍層晶體擇優(yōu)生長(zhǎng)面由(200)晶面變?yōu)?110)晶面,耐腐蝕性能逐漸增強(qiáng)。隨著占空比的增大,純Cr鍍層的組織結(jié)構(gòu)由柱狀晶向均勻、細(xì)小納米晶轉(zhuǎn)變,純Cr鍍層的厚度和沉積速率相應(yīng)增大,同時(shí)純Cr鍍層沿(110)晶面的擇優(yōu)取

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論