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文檔簡介
1、隨著電子封裝互連焊點的尺寸越來越小,焊點內(nèi)的空洞缺陷逐漸成為影響封裝可靠性的關(guān)鍵問題之一引起廣泛關(guān)注。本課題針對SnAgCu焊點的空洞現(xiàn)象進行探索,研究了焊點空洞產(chǎn)生的影響因素,建立了空洞形成模型。
實驗過程中采用激光噴射釬料球鍵合技術(shù)制作焊點。本課題建立了焊點空洞的接受標準,并根據(jù)空洞形態(tài)、尺寸和分布位置將空洞分為三類:界面空洞、內(nèi)部空洞和外部空洞。實驗分析了焊盤表面物質(zhì),沒有發(fā)現(xiàn)明顯的污染物,空洞形成與焊盤表面污染物無關(guān)。
2、試驗中發(fā)現(xiàn)釬料球的外表光滑,內(nèi)部也無預(yù)制空洞,采用SnPb共晶釬料對比試驗時,發(fā)現(xiàn)也有空洞存在,表明空洞的形成和材料無關(guān);當激光能量增大時,空洞數(shù)量增多,單個空洞體積增大,而降低能量時又會出現(xiàn)焊接不良缺陷,空洞的形成與激光能量有關(guān)。深入研究發(fā)現(xiàn),在相互垂直的兩個焊盤上,空洞缺陷多集中在豎直焊盤側(cè),分析兩種含盤結(jié)構(gòu)發(fā)現(xiàn)豎直側(cè)焊盤Au鍍層較厚,而鍍Au工藝也有差別。
試驗確定形成空洞氣體的來源是Au鍍層中殘留易分解物質(zhì)苯乙烯。熔融
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