板坯連鑄結晶器內熔體流動的PIV分析.pdf

1、本文將PIV(粒子圖像測速)技術應用于連鑄結晶器內流場研究，介紹了PIV測試流場的基本原理以及相應的硬件系統(tǒng)(激光器、CCD相機等)和軟件系統(tǒng)(圖像采集系統(tǒng)、圖像處理系統(tǒng))，尋求到適宜大板坯連鑄模型的示蹤粒子，并總結出PIV系統(tǒng)用于大板坯連鑄模擬的軟件設置參數(shù)，對結晶器內流場實現(xiàn)可視化。 針對1650mm×220mm大板坯連鑄，設計了PIV物理模擬系統(tǒng)，包括結晶器模型、水循環(huán)系統(tǒng)、水口設計、交流片光源系統(tǒng)。在不同的水口出口角度、

2、水口浸入深度、鑄造速度，不同水口內徑以及凹井狀況不同的條件下進行了定量分析。結果表明： (1)在入射流的上部和下部分別存在兩個大的漩渦，下部的更大一些，這兩個漩渦的狀態(tài)直接影響連鑄坯的質量； (2)出水口角度和浸入深度是影響流場流動模式的重要因素，就所模擬的大板坯而言，水口浸入深度選擇在130mm左右的是適宜的，出水口角度越大，流股的沖擊深度越深； (3)鑄造速度越大，流股對結晶器窄面的沖擊點也越高，此外，較高的