氰化鍍銅工藝范本

1、氰化鍍銅工藝CYRIDECOPPERBRIGHTERPLATINGPROCESS?特性：特性：1為電鍍鋅基鑄件時必備的銅層。2可產生光亮、平滑致密的銅層，故可增長電鍍時間，將整個工件完全遮蓋，從而減少后鍍種問題的出現(xiàn)。3電流密度范圍寬廣，沉積速度快，勻鍍能力強，高低位出光一致。4雜質容忍度高、易控制。5可作掛鍍及滾鍍。6可電鍍到酸銅的60—70﹪光亮度，減少鍍酸銅或鍍鎳的時間。●鍍液組成及操作條件：鍍液組成及操作條件：原料及操作條件范圍

2、標準（一般開缸份量）氰化第一銅氰化鈉氫氧化鈉4070克升60–98克升1–3克升60克升90克升2克升諾次液CL3CL430–50毫升升5–7毫升升57毫升升40毫升升6毫升升6毫升升溫度電流密度陽極攪拌方法過濾4055℃0.5–4安培平方分米無氧電解銅空氣及機械攪拌連續(xù)過濾45–50℃0.5–4安培平方分米無氧電解銅空氣攪拌●鍍液配制：鍍液配制：1注入二分之一的水于代用缸(或備用槽中)加熱至4050℃。所用水的氯離子含量應低于70毫克

3、升(ppm)。2加入所需的氰化鈉和氫氧化鈉，攪拌直至完全溶解。3把氰化第一銅用水調糊狀，一邊攪拌（強力攪拌）一邊慢慢加入至以溶解好的氰化鈉溶液內，注意溫度不要超過60℃4加入2克升活性碳粉，攪拌最少一小時。5用過濾泵，把溶液濾入清潔的電鍍槽內，加水至接近水位。6把鍍液加溫到45℃。7按上表加入適量氰化鍍銅添加劑并攪拌均勻，在正常操作條件下，把鍍液電解35安培小時升，便可正式生產?！裨O備設備1鍍槽柔鋼缸內襯聚乙烯、強化聚脂或其它認可材料。

4、2溫度控制加溫及冷卻管可用石墨、鈦、聚四氟乙烯、聚氯乙烯或聚乙烯等材料。3空氣攪拌鍍液需要平均而強烈的空氣攪拌，所需的空氣由設有過濾器的低壓無油氣泵供應，所需氣量為1220立方米小時平方米液面。打氣管最好離槽底3080毫米，與陰極銅棒同一方向。氣管需鉆有兩排直徑3毫米的小孔，45度角向槽底，兩排小孔應相對交錯，每邊間距80100毫米（小孔交錯間距4050毫米）。鍍槽最好同時有兩支或以上打氣管，氣管聚氯乙烯或聚乙烯材料，內徑2040毫米，

5、兩管間距150250毫米。4陰極搖擺鍍液攪拌以空氣攪拌為主，同時附設陰極搖擺有利工件接觸新鮮鍍液。在橫向移動時，沖程幅度為100毫米，每分鐘來回搖擺2025次。上下移動時，沖程幅度為60毫米，每分鐘上下?lián)u擺2530次。5循環(huán)過濾堿銅鍍液需時常保持清潔，浮游物質如塵埃、污穢、碳粉或油脂均會引致鍍層粗糙，產生針孔或缺乏光澤。鍍液最好采用連續(xù)性循環(huán)過濾，過濾泵要能在一小時將整槽鍍液過濾四次或以上。過濾泵內不可藏有空氣，否則會導致鍍液產生極細小

6、的氣泡，而引致針孔問題。過濾泵的入水管亦不可接近打氣管，以免吸入空氣。●組成原料的功用組成原料的功用氰化第一銅提供銅離子，以使在工件表面上還原成銅鍍層。鍍液中銅含量過低，影響到鍍層厚度，延長電鍍時間。氰化鈉絡合劑，絡合氰化第一銅，提供游離氰。氫氧化鈉增加導電性，抑制氰化鈉分解成碳酸鈉進行累積電鍍鐵件時可加到2030克升。9補給方法補給方法堿性鍍銅添加劑消耗量（1000安培小時）諾次液CL3CL4100毫升300毫升特別聲明此說明書內所有