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文檔簡介
1、隨著激光技術(shù)的發(fā)展和高功率激光的廣泛應(yīng)用,給光學(xué)薄膜的發(fā)展帶來了新的挑戰(zhàn)。光學(xué)薄膜的吸收損耗是影響薄膜性能的重要參數(shù),已成為限制高功率激光技術(shù)發(fā)展的一個重要因素。近年來,隨著大口徑光學(xué)薄膜元件的廣泛應(yīng)用,對光學(xué)薄膜的吸收均勻性提出了越來越高的要求。準確測量光學(xué)薄膜吸收損耗均勻性對于膜層的優(yōu)化設(shè)計、薄膜損傷機理的研究和鍍膜工藝的提高具有重要意義。光熱失調(diào)技術(shù)是利用光學(xué)薄膜反射或透射光譜因溫度影響發(fā)生漂移這一現(xiàn)象來測量光學(xué)薄膜的吸收損耗,是
2、一種新的光熱技術(shù)。本文首次利用光熱失調(diào)技術(shù)對光學(xué)薄膜吸收損耗均勻性的測量開展了理論和實驗兩方面研究。主要工作如下:
首先,從光熱失調(diào)技術(shù)的基本原理出發(fā),根據(jù)理論模型,編寫程序進行數(shù)值模擬,理論分析加熱光斑和探測光斑尺寸對光熱失調(diào)技術(shù)測量光學(xué)薄膜吸收的影響,從理論上進一步優(yōu)化了該技術(shù)對光學(xué)薄膜吸收損耗測量的靈敏度和精度。
其次,設(shè)計并搭建了一套基于光熱失調(diào)技術(shù)的自動化成像檢測系統(tǒng)。編寫控制程序,使計算機能夠?qū)?/p>
3、驗系統(tǒng)進行自動控制,實現(xiàn)自動化測量??刂瞥绦蚣闪穗姍C控制、鎖相放大器參數(shù)設(shè)定、數(shù)據(jù)采集等功能,操作簡單快捷,方便了人機交互。并且編寫了成像程序,以圖像來顯示測量結(jié)果。
最后,利用所設(shè)計的實驗系統(tǒng)開展了薄膜樣品吸收均勻性的成像檢測。首先對一片經(jīng)劃痕預(yù)處理的薄膜樣品的吸收均勻性進行成像檢測,以驗證實驗系統(tǒng)的準確性。實驗結(jié)果表明,系統(tǒng)運行穩(wěn)定,測量準確,具有較高的可靠性、穩(wěn)定性、抗干擾能力和可重復(fù)性。之后選取兩塊未經(jīng)任何預(yù)處理
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