多層光學(xué)薄膜的實(shí)驗(yàn)制備及其光學(xué)特性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、多層光學(xué)薄膜具有較好的耐磨性及耐蝕性,當(dāng)各分膜的厚度為納米數(shù)量級時,多層膜在力學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)等方面表現(xiàn)出奇特的性質(zhì)。在種類眾多的多層光學(xué)薄膜中,氧化物透明薄膜具有寬的禁帶,在紫外區(qū)的截止,以及在可見光區(qū)具有很高的透射率等優(yōu)點(diǎn),因而在新型的光學(xué)薄膜材料的研究中占有重要的地位。
　　本文中針對含有缺陷層的一維三元光子晶體的帶結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究。特別是當(dāng)缺陷層為增益介質(zhì)時,若選擇厚度以及復(fù)折射率n+='合適的增益介質(zhì),在透射ikn譜中

2、將會在紅外區(qū)的一個透射帶邊波長處出現(xiàn)光的最大放大。
　　本文利用溶膠—凝膠法制備了ZnO薄膜。通過對ZnO薄膜XRD衍射圖的研究,發(fā)現(xiàn)實(shí)驗(yàn)中制備的ZnO膜是一種具有單晶結(jié)構(gòu)的薄膜。測量了并且得到了不同厚度的ZnO膜的光學(xué)常數(shù),發(fā)現(xiàn)單晶結(jié)構(gòu)的ZnO膜與六角纖鋅礦結(jié)構(gòu)的ZnO膜的消光系數(shù)幾乎相同。
　　利用溶膠—凝膠法制備了(TiO2/SiO2)n以及含ZnO缺陷層的(TiO2/SiO2)n/ZnO/(SiO2/TiO2)n多層

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