反應(yīng)磁控濺射制備氧化物光學(xué)薄膜的結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)研究.pdf

1、　　本文研究了沉積條件對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能的影響，薄膜的微結(jié)構(gòu)與其光學(xué)性質(zhì)的關(guān)系，以及如何能夠更加準(zhǔn)確計(jì)算薄膜的光學(xué)常數(shù)，提出了一種簡(jiǎn)單的利用兩步法薄膜的正入射透射光譜中的極大值和極小值包絡(luò)線來求解薄膜的平均折射率、消光系數(shù)和不均質(zhì)的方法；該方法比傳統(tǒng)的包絡(luò)法計(jì)算的光學(xué)常數(shù)更加精確，提出了利用兩步法薄膜的透射光譜極小值的變化來計(jì)算兩步法薄膜中兩層薄膜厚度的微小差別，研究退火溫度對(duì)Nb2O5薄膜的結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)的影響，結(jié)果表明，提出了一

2、種通過測(cè)量薄膜的表面粗糙度和透射、反射光譜特性來區(qū)分薄膜的表面和體內(nèi)光學(xué)散射的研究方法，在濺射功率為1Kw的條件下，20sccm氧氣流速是制備SiO2薄膜的最佳流速，薄膜具有很小光學(xué)吸收、較小的表面粗糙度和相對(duì)較高的沉積速率，在550nm波長(zhǎng)處的折射率為1.45，在氧氣流速為15sccm時(shí)，沉積速率具有極大值；而在氧氣流速為10sccm左右時(shí)，薄膜的表面粗糙度有極大值；說明沉積薄膜的表面粗糙度不僅與沉積速率相關(guān)，還與薄膜的成分有關(guān)。