新型有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化光學(xué)薄膜的光敏特性研究.pdf

1、激光修正作為一種后處理技術(shù)來(lái)增強(qiáng)器件的性能和提高成品率，已經(jīng)在當(dāng)今的半導(dǎo)體工業(yè)中得到廣泛的應(yīng)用。而近幾十年來(lái)，光敏材料的應(yīng)用也已經(jīng)在光學(xué)衍射器件，光存儲(chǔ)，減反膜等光學(xué)領(lǐng)域引起廣泛關(guān)注。因此在光學(xué)薄膜中加入光敏材料對(duì)干涉濾光片進(jìn)行激光修正的想法被提了出來(lái)，這種方法可以修正已沉積的薄膜濾光片，制作圖形化的薄膜濾光片，以及制作光致限幅器件。為此需要開(kāi)發(fā)一種符合干涉濾光片設(shè)計(jì)要求的光敏材料。
　　 我們利用溶膠凝膠法，合成了一種具有高紫

2、外光敏特性的有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化材料MPTS+PFTS，并用旋轉(zhuǎn)涂膜法在單晶硅基板上制備了其光學(xué)薄膜。利用光度法，由反射率曲線擬合出光學(xué)薄膜的各項(xiàng)光學(xué)常數(shù)。經(jīng)過(guò)紫外氘燈光源照射5個(gè)小時(shí)之后，薄膜厚度減少了55％，而折射率從1.484減小為1.445，光學(xué)厚度更是隨著照射時(shí)間增長(zhǎng)呈現(xiàn)指數(shù)型減小，而通過(guò)控制曝光時(shí)間，可以精確控制薄膜的光學(xué)厚度。同時(shí)，我們對(duì)這種光敏特性，從化學(xué)結(jié)構(gòu)入手，進(jìn)行了科學(xué)的分析，發(fā)現(xiàn)在紫外光作用下，部分有機(jī)功能團(tuán)的分解造成