量子點形成時的界面互擴散及硼對Ge量子點生長的影響.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、該文主要討論了二個方面的內容:最子點形成時的Ge/Si界面互擴散以及硼原子對Ge量子點自組織生長的影響.1.用拉曼光譜研究了外延的Ge層與Si襯底在Ge量子點形成過程中的Ge/Si界面互擴散.我們用分子束外延生長了一層完全應變的Ge層,退火形成Ge量子點.實驗發(fā)現(xiàn)最子點沒有形成之前,Ge/Si界面的互擴散很不明顯,最子點一旦形成界面的互擴散變得很嚴重了,量子點的形成加劇了界面的互擴散.2.研究了硼原子對Si(100)襯底上的Ge量子點自

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