含非均勻介質(zhì)的光學(xué)系統(tǒng)的成像仿真與像質(zhì)評(píng)價(jià).pdf_第1頁(yè)
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1、高精度光學(xué)系統(tǒng)中介質(zhì)的非均勻性往往會(huì)影響到系統(tǒng)的成像質(zhì)量等性能。隨著技術(shù)的發(fā)展，對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的性能要求越來(lái)越高，那么系統(tǒng)中介質(zhì)的非均勻性就成為了影響其性能的重要因素。在光學(xué)測(cè)量、半導(dǎo)體光刻、航空測(cè)繪等領(lǐng)域中使用到的光學(xué)系統(tǒng)都會(huì)遇到非均勻介質(zhì)的問(wèn)題，所以研究光學(xué)系統(tǒng)中的非均勻介質(zhì)對(duì)提高系統(tǒng)的性能有著重要的意義。
　　 本文利用多項(xiàng)式擬合、有限元等方法對(duì)非均勻介質(zhì)的折射率場(chǎng)分布進(jìn)行描述，然后使用光線光學(xué)的方法模擬仿真出光線在非均勻介質(zhì)

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