熱解吸質(zhì)譜法在分析表面污染物上的應用研究.pdf

1、真空系統(tǒng)中使用的各種材料，由于加工、清洗、裝配、運行過程中存在有機物殘留，使得材料表面有污染物質(zhì)。這些污染物質(zhì)在一定條件下會在真空中釋放，經(jīng)擴散，吸附、沉降到真空室和光學元件等表面，導致系統(tǒng)污染、元件性能下降和其他一些負面影響。因此，材料表面污染物的檢測分析具有非常重要的意義。
　　本文闡述并對比了常見的材料表面污染物分析方法和質(zhì)譜常壓離子化技術(shù)，其中分析方法包括色譜法、光譜法和質(zhì)譜法;質(zhì)譜常壓離子化技術(shù)包括噴霧型、放電型、激光輔

2、助解吸型和熱解吸型離子化技術(shù)。其中，質(zhì)譜法設備簡單、定性能力好、靈敏度高、可以進行快速在線檢測。熱解吸型離子化技術(shù)加熱裝置小巧，簡單便攜，采用波紋管連接質(zhì)譜儀與進樣口，方便靠近樣品進行實時在線分析。因此，本文采用熱解吸質(zhì)譜法分析材料表面污染物。
　　本文首先介紹了熱解吸質(zhì)譜法的基本原理，根據(jù)基本原理指出了熱解吸質(zhì)譜法分析靈敏度的關鍵在于進樣效率，而進樣效率的主要受限因素為解吸溫度和進樣裝置參數(shù)。對解吸溫度進行了分析，結(jié)果表明:加熱

3、器加熱功率越大，解吸溫度越高;載氣流量越高，解吸溫度越高，但進樣效率越低。對進樣裝置參數(shù)進行了模擬研究，結(jié)果表明:載氣噴射角度為20°～30°時，進樣效率最高;真空入口高度越低，進樣效率越高;進樣效率隨真空入口直徑的增大先上升后下降，在0.8mm時最高;進樣效率隨著間隙的增大先上升后下降，在0.5mm時最高。
　　對熱解吸質(zhì)譜法分析靈敏度的受限因素進行了實驗研究，結(jié)果表明:對于材料表面污染物，加熱器加熱功率越高，分析靈敏度越高;載

4、氣流量越高，分析靈敏度越低;載氣噴射角度為20°左右時，分析靈敏度較高;真空入口高度越低，分析靈敏度越高;間隙大小為0.7mm時，分析靈敏度較高;對于相同的污染物，所在的材料表面導熱性能越好，分析靈敏度越高。
　　介紹了冷凝濃縮轉(zhuǎn)移的理論和冷凝濃縮的裝置以及納米纖維富集器，研究了樣品冷凝濃縮轉(zhuǎn)移對分析靈敏度的影響，并研究了冷凝裝置中放置富集器對分析靈敏度的影響，按照從量大到量小的原則，分別對固體樣品、涂抹采集液體樣品、蒸發(fā)采集液體