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文檔簡介
1、由于鎳具有良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱和耐腐蝕性能,以及優(yōu)異的塑性加工性能和焊接性,因而被廣泛應(yīng)用于電子電氣元部件、石油化工行業(yè)、食品加工業(yè)、航空航天和軍工業(yè)等領(lǐng)域。目前硫化鎳陽極隔膜電解是我國目前最主要生產(chǎn)鎳的工藝,用該種方法生產(chǎn)的鎳占其總產(chǎn)量的90%以上。由于電解體系和工藝參數(shù)的不同,所以鎳電結(jié)晶組織結(jié)構(gòu)就會不同。
首先,通過單因素試驗(yàn)方法研究了陰極電流密度、電解液溫度、pH值和鎳離子濃度等工藝參數(shù)對鎳電結(jié)晶組織結(jié)構(gòu)的影響規(guī)律,并采用
2、XRD、SEM等分析手段對電沉積鎳的晶粒擇優(yōu)取向、大小、結(jié)構(gòu)參數(shù)和電結(jié)晶鎳表面形貌進(jìn)行了表征。研究結(jié)果表明:
當(dāng)陰極電流密度為190~310 A/m2時,電結(jié)晶鎳表現(xiàn)為沿(111)晶面擇優(yōu)生長。隨陰極電流密度的增加,電結(jié)晶鎳(220)晶面的織構(gòu)系數(shù)呈增大趨勢,同時晶粒尺寸也逐漸增大,表面顆粒尺寸也增大。
當(dāng)電解液溫度為35℃時,電結(jié)晶鎳沿(220)晶面擇優(yōu)取向;當(dāng)電解液溫度為45~75℃時,轉(zhuǎn)變?yōu)椋?11)晶面擇優(yōu)取
3、向,且織構(gòu)系數(shù)在55℃時最大為63.2%;隨著電解液溫度的升高,電結(jié)晶鎳的平均晶粒尺寸逐漸增大。當(dāng)電解液溫度為45℃時,電結(jié)晶鎳的表面形貌為細(xì)小均勻的截角八面體“金字塔”狀團(tuán)簇結(jié)構(gòu),在55℃時其轉(zhuǎn)變?yōu)榉植茧s亂的針狀,65℃以上時變?yōu)榇笮〔痪鶆虻慕豢棸麪顖F(tuán)簇結(jié)構(gòu)。
鎳離子濃度增大,電結(jié)晶鎳會由(200)晶面織構(gòu)變?yōu)椋?11)晶面織構(gòu),晶粒尺寸減小,表面顆粒大小比較均勻。
當(dāng)電解液pH值為1.2~6.0時,電結(jié)晶鎳的晶粒
4、都表現(xiàn)為(111)晶面擇優(yōu)取向。隨著 pH值的增大,(111)晶面衍射峰的強(qiáng)度緩慢增大,晶粒尺寸為28~42 nm。當(dāng)pH為1.2和2.4時,電結(jié)晶鎳表面為均勻分布的細(xì)小顆粒狀;當(dāng) pH增大到3.6和4.8后沉積層表面顆粒變得大小不均勻;pH為6.0時沉積層表面變得比較光滑,但會有裂紋出現(xiàn)。這主要是因?yàn)楣に噮?shù)的改變會導(dǎo)致晶格發(fā)生畸變,從而在沉積層內(nèi)有應(yīng)力存在。
采用 XRD和 SEM方法研究了電沉積時間對電結(jié)晶鎳的擇優(yōu)生長、
5、晶粒大小、表面形貌和截面組織的影響。結(jié)果表明:隨電沉積時間的增加,電結(jié)晶鎳的晶體生長方向會發(fā)生變化,由最初的(111)(200)晶面織構(gòu)變?yōu)?6 h后的(220)晶面織構(gòu);電結(jié)晶鎳的表面形貌由棱錐狀慢慢變?yōu)榘麪睿L機(jī)制由開始時的螺旋位錯生長變?yōu)槔鄯e長大機(jī)制。對電結(jié)晶鎳的橫截面組織觀察表明沉積層的大部分晶粒呈柱狀形式生長,并且垂直于始極片,晶粒大小沿沉積厚度方向呈階梯狀分布。
最后,對工業(yè)生產(chǎn)的電解鎳沉積層縱截面進(jìn)行了電子背散
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