基于EIV模型的RFM遙感影像正射校正方法的研究.pdf

1、在遙感成像過(guò)程中，因諸多因素的影響，原始遙感影像會(huì)存在畸變從而失真。因此，在使用原始遙感影像前，需要對(duì)其進(jìn)行校正處理。一種常用的影像校正技術(shù)是正射校正，其中有理函數(shù)模型(RFM)法是應(yīng)用最廣泛的正射校正技術(shù)。然而，在控制點(diǎn)(RCP)所含誤差具有異方差結(jié)構(gòu)的情況下，RFM得到的估計(jì)往往是有偏的。
　　本文借鑒前人的研究經(jīng)驗(yàn)，將變量含誤差(EIV)模型引入到RFM正射校正的過(guò)程中，從而減少RCP所含誤差對(duì)校正結(jié)果的影響，進(jìn)而提高校正精

2、度；并提出基于加權(quán)整體最小二乘(WTLS)估計(jì)的RFM正射校正方法，通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證所提方法的有效性和適用性，具體內(nèi)容包括：
　　1、總結(jié)引起影像畸變的諸多因素，詳述兩種校正模型：幾何校正和正射校正，并分析兩種校正方法的適用情況和相互關(guān)系。
　　2、分析兩種RFM線性化方法(迭代法和直接法)并導(dǎo)出二者間存在的關(guān)系。
　　3、在RCP具有異方差誤差結(jié)構(gòu)的一般條件下，將基于EIV模型的WTLS估計(jì)方法引入到RFM的參數(shù)估計(jì)過(guò)程