GaSb-InAs異質(zhì)結(jié)隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管的性能分析.pdf_第1頁(yè)
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1、隨著信息技術(shù)的進(jìn)步,集成電路迅猛發(fā)展,要求單個(gè)半導(dǎo)體器件的尺寸不斷減小,隨之而來(lái)的便是功耗的增加,而這正是目前集成電路發(fā)展的最大障礙.為了解決電路能耗問(wèn)題,隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管以不同于傳統(tǒng)場(chǎng)效應(yīng)管的工作原理,作為最理想的替代品成為國(guó)際上的重點(diǎn)研究對(duì)象.
  本文通過(guò)對(duì)一維泊松方程的求解得到了關(guān)于溝道內(nèi)表面勢(shì)的表達(dá)式,從而得出了導(dǎo)帶和價(jià)帶的能帶分布情況,在有效質(zhì)量近似下,利用Wentzen-Krammel-Brillouin(WKB)近

2、似方法,研究了由GaSb/InAs形成的異質(zhì)結(jié)隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管(TEFT)的隧穿幾率與隧穿電流,通過(guò)數(shù)值計(jì)算討論了GaSb/InAs異質(zhì)結(jié)TFET的傳輸特性與柵極電壓、偏壓以及材料厚度等的變化關(guān)系.由于Ⅱ型的異質(zhì)結(jié)構(gòu)特點(diǎn),溝道電壓容易控制異質(zhì)結(jié)界面處能帶,使得由小帶隙材料GaSb/InAs形成的晶體管的有效隧穿長(zhǎng)度變小,因此得到了較高的開(kāi)啟電流,且具有比傳統(tǒng)金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)更低的亞閾值擺幅,突破了室溫下60m

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