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文檔簡(jiǎn)介
1、本文以硅基無(wú)源集成器件為研究目標(biāo)。先從薄膜磁芯材料入手,對(duì) CoNbZr軟磁薄材料進(jìn)行研究,設(shè)計(jì)、制備、測(cè)試并優(yōu)化其性能。然后重點(diǎn)研究了硅基無(wú)源平面螺旋電感和硅基LC集總濾波器這兩種器件。分別究了二者的設(shè)計(jì)和計(jì)算方法,并用ADS和HFSS進(jìn)行仿真,分析仿真結(jié)果,優(yōu)化器件性能。本文取得的進(jìn)展如下:
第一,分析論證了集成無(wú)源器件研究的特點(diǎn),并提出本篇論文研究重點(diǎn),設(shè)計(jì)硅基無(wú)源集成LC濾波器。分析了無(wú)源器件工藝技術(shù),并對(duì)比其優(yōu)劣,最
2、終選擇了硅基CMOS工藝。
第二,研究了磁芯材料的制備。先分析了磁芯材料參數(shù)對(duì)平面電感性能的影響,選定直流磁控濺射發(fā)制備了CoNbZr軟磁合金薄膜,并對(duì)比了不同制備條件下,軟磁薄膜的性能,進(jìn)而對(duì)濺射條件進(jìn)行了優(yōu)化,最終得到矯頑力為6.22(Oe),磁導(dǎo)率達(dá)到100的CoNbZr軟磁薄膜。
第三,研究了平面螺旋電感以及MIM電容。先對(duì)二者進(jìn)行模型分析,得到平面螺旋電感以及MIM電容的等效模型。通過(guò)對(duì)模型的分析,提出電感
3、以及電容參數(shù)的計(jì)算公式。然后用 HFSS軟件對(duì)兩種元器件進(jìn)行建模仿真,結(jié)合硅基 CMOS工藝的可行性,設(shè)計(jì)出電感量為13nH,品質(zhì)因數(shù)達(dá)到20的平面空芯螺旋電感,電感量為100nH左右,品質(zhì)因數(shù)達(dá)到100的平面磁芯螺旋電感,以及電容量在pF量級(jí),工作頻段內(nèi)品質(zhì)因數(shù)達(dá)到10以上的片上電容,可滿足集成LC濾波器設(shè)計(jì)的需求。
第四,首先研究了LC集總濾波器的設(shè)計(jì)方法,并詳細(xì)介紹了巴特沃斯響應(yīng)濾波器。根據(jù)這一設(shè)計(jì)思路,利用ADS軟件設(shè)
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