基于掃描拼接的大面積光刻技術(shù)研究.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、激光干涉納米光刻是一種產(chǎn)生納米級(jí)周期性圖案的有效技術(shù)。焦深長(zhǎng)，分辨率高，無(wú)掩膜，成本低是該技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)。由于在工業(yè)生產(chǎn)制造中，需要大面積的有相應(yīng)結(jié)構(gòu)的材料表面，利用激光干涉光刻技術(shù)制造大面積拼接微結(jié)構(gòu)具有靈活性強(qiáng)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)。
　　本文針對(duì)激光干涉光刻技術(shù)進(jìn)行了理論分析的基礎(chǔ)上，設(shè)計(jì)了基于掃描拼接的大面積光刻系統(tǒng)。采用雙光束激光干涉曝光制造了單曝光點(diǎn)的微結(jié)構(gòu)，并進(jìn)行了有效面積的檢測(cè)，提出了利用方形光闌進(jìn)行光斑優(yōu)化進(jìn)而實(shí)現(xiàn)直角邊掃

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