鈦表面高太陽(yáng)吸收膜層的制備及性能研究.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩82頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、鈦及其合金鈦有良好的機(jī)械性能、耐蝕性以及穩(wěn)定性,因而廣泛的應(yīng)用在航空航天軍械領(lǐng)域。為提高太陽(yáng)光的利用效率,用電化學(xué)氧化的方法在純鈦表面制備了高太陽(yáng)吸收率膜層,并對(duì)膜層的粗糙度、厚度、形貌、元素組成和晶相組成進(jìn)行了表征分析,對(duì)膜層的吸收率發(fā)射率性能進(jìn)行了測(cè)試,并探討了組成結(jié)構(gòu)對(duì)膜層性能的影響。
  利用微弧氧化法以磷酸鹽與硅酸鹽為電解液體系中在TA7表面制備了高吸收高發(fā)射膜層,形成黑色均勻粗糙的非晶態(tài)膜層。偏釩酸銨、硫酸亞鐵和醋酸鎳

2、濃度增大,膜層的黑度值增加。偏釩酸銨濃度增加膜層的粗糙度和厚度都明顯增加,形貌變化明顯,吸收率和紅外發(fā)射率都增加;醋酸鎳濃度增加膜層的粗糙度、厚度以及微觀形貌基本不變,吸收率和發(fā)射率都升高;硫酸亞鐵濃度增加,膜層的粗糙度厚度以及膜層形貌變化較小,膜層的吸收率和發(fā)射率變化也較小。反應(yīng)電壓的升高膜層的厚度粗糙度明顯增加,形貌變化明顯,表面不均勻,但對(duì)膜層的吸收率影響不大,發(fā)射率略有增加;反應(yīng)時(shí)間延長(zhǎng),膜層粗糙度和厚度變化很小,膜層的吸收率和

3、發(fā)射率略有增加。所以在添加偏釩酸銨、醋酸鎳、硫酸亞鐵的電解液中400V反應(yīng)10min能獲得最好的結(jié)果。
  利用微弧氧化法以磷酸三鈉與鋁酸鈉為電解液在TA2表面制備了高吸收低發(fā)射多孔膜層。隨著反應(yīng)時(shí)間和反應(yīng)電壓的增加,膜層的粗糙度厚度都增加,微孔的孔徑增加。隨著反應(yīng)時(shí)間的增加,膜層中晶相組成有鈦酸鋁、銳鈦礦型和板鈦礦型TiO2,吸收率降低,但發(fā)射率是急劇增加的。逐漸增大反應(yīng)電壓,膜層的晶相組成只有板鈦礦型TiO2,膜層的吸收率隨著

4、電壓的升高先增加,電壓過(guò)高時(shí)吸收率下降,而發(fā)射率逐漸增加,所以在400V反應(yīng)最短時(shí)間有最好的結(jié)果。
  利用陽(yáng)極氧化法在0.5mol/L的硫酸溶液中在TA2表面制備高吸收高發(fā)射膜層。膜層晶相組成為銳鈦礦型二氧化鈦。隨著氧化電壓由100V升高到160V,膜層表面微孔數(shù)量以及微孔孔徑逐漸增加,膜層的太陽(yáng)吸收率和紅外發(fā)射率均增加。改變陽(yáng)極氧化時(shí)間,膜層的形貌、吸收率和發(fā)射率基本不變,所以氧化時(shí)間對(duì)膜層影響很小。還利用陽(yáng)極氧化在陽(yáng)極氧化膜

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論