微光子集成芯片的關(guān)鍵工藝研究.pdf

1、隨著網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)需求的增長，人們對寬帶有了更多的需求。為了適應(yīng)這一需求，“寬帶中國”國家戰(zhàn)略已經(jīng)進入實施階段，光纖接入是實現(xiàn)“寬帶中國”戰(zhàn)略的基礎(chǔ)，光分配節(jié)點是光纖接入網(wǎng)絡(luò)的重要組成部分，而平面光波導(dǎo)分路器是其最重要的器件之一。分路器市場需要量日益增長，已經(jīng)成為光通信產(chǎn)業(yè)的熱點之一。本文主要內(nèi)容包括:
　　(1)研究了波導(dǎo)與光纖之間的模場匹配損耗和對準(zhǔn)偏差損耗特性。分析了橫向錯位、縱向間距和軸向角度對準(zhǔn)因素對波導(dǎo)和光纖耦合損耗的影響。

2、采用雙峰模場匹配法，優(yōu)化了過渡波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，減少了過渡損耗。
　　(2)研究了二氧化硅光波導(dǎo)的制作工藝。采用等離子體化學(xué)氣相沉積生長二氧化硅薄膜，研究了二氧化硅薄膜摻雜工藝和等離子體化學(xué)氣相沉積工藝參數(shù)對二氧化硅薄膜生長速率、折射率和應(yīng)力的影響;采用光刻和刻蝕制作了二氧化硅波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，優(yōu)化了石英基二氧化硅波導(dǎo)光刻工藝，研究了電感耦合等離子體的工藝參數(shù)對二氧化硅薄膜刻蝕速率的影響;采用退火爐對二氧化硅波導(dǎo)進行退火處理，研究了退火對二氧化硅