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1、本文主要研究了圓柱形玻璃幕墻的鏡面陽(yáng)光聚焦安全問(wèn)題、大面積AZO玻璃的制備與光電性能以及AZO玻璃的絨面霧化三個(gè)方面的內(nèi)容。
建立了圓柱形玻璃幕墻建筑的陽(yáng)光聚焦安全模型,只需確定具體時(shí)刻(月、日、時(shí)、分)、具體建筑參數(shù)(方位角γ、半徑R和反射率Rf)和吸收率ρ三個(gè)方面的參數(shù),即可確定其陽(yáng)光聚焦溫度Tω和聚焦范圍1,對(duì)其陽(yáng)光聚焦溫度Tω和聚焦范圍1進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析,確定幕墻建筑對(duì)其陽(yáng)光聚焦方向的建筑或人體的聚光安全性影響。以杭州某大
2、樓為例,模型計(jì)算結(jié)果表明:在6月20日12點(diǎn)30分和6月25日12點(diǎn)30分,其陽(yáng)光聚焦溫度Tω達(dá)到一年中的最高溫度113℃,聚焦范圍1為0.38~4.54米,遠(yuǎn)小于附屬設(shè)施距玻璃幕墻的距離,表明該大樓玻璃幕墻的聚焦對(duì)其附屬設(shè)施的高溫影響不大。此模型具有較好的普適性,可以用于相關(guān)圓柱形玻璃幕墻建筑的聚光安全分析,并為玻璃幕墻建筑尤其是凹形玻璃幕墻建筑的光學(xué)安全設(shè)計(jì)提供借鑒。
利用Al2O3∶ZnO為2∶98的陶瓷靶為靶材,采用射
3、頻磁控濺射方法首先在玻璃襯底上制備AZO薄膜。通過(guò)變換工藝參數(shù),在實(shí)驗(yàn)和分析的基礎(chǔ)上確定了AZO薄膜的最佳濺射工藝為:本底真空度為4×10-5Pa,濺射電流20A,濺射時(shí)間104s,襯底溫度為290℃,工作氣壓為0.88Pa。采用尺寸為1300mm×1100mm×3.2mm的玻璃,制備得到的AZO性能為:透過(guò)率達(dá)到82%,方塊電阻為13Ω/□,成功制得具有高可見(jiàn)光透過(guò)率和良好導(dǎo)電性的AZO薄膜,為AZO的應(yīng)用打好基礎(chǔ)。
本論文
4、采用離線濕化學(xué)腐蝕法制備絨面AZO玻璃。通過(guò)不同腐蝕試劑及其腐蝕時(shí)間的調(diào)整,結(jié)果表明:NH4Cl僅起到提高AZO透過(guò)率的作用,而HF能起到增加AZO玻璃霧度的作用。其中,1wt%HF的最佳腐蝕時(shí)間為25s。在實(shí)驗(yàn)和分析的基礎(chǔ)上確定了制備絨面AZO玻璃的最佳腐蝕工藝參數(shù)為:先用1wt%HF溶液腐蝕腐蝕時(shí)間為25s,后用5mol%NH4Cl溶液腐蝕腐蝕時(shí)間為4min。制備得到的絨面AZO玻璃的透過(guò)率為74.8%,霧度為11.52%。成功實(shí)現(xiàn)
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