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文檔簡介
1、本文主要研究具有非均勻反射相位分布特征的的電磁隱身覆層（簡稱非均勻覆層），這是近幾年隨著反射陣天線的研究而衍伸出來的一門新興的雷達電磁隱身技術。該技術通過在金屬底板上非均勻的布局反射陣元，使得電磁波入射到金屬板上的反射相位呈現(xiàn)非均勻分布，從而實現(xiàn)對指定方向上電磁散射強度也就是雷達散射截面(RCS)的有效縮減。
本文提出一種針對平板型非均勻覆層的快速遠場分析算法以及評價非均勻覆層RCS縮減特性的代價函數(shù)，并以此為基礎對幾種不同類
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