基于嵌段聚合物模板的有序納米粒子陣列的可控制備.pdf

1、金屬以及金屬氧化物納米有序陣列因其特殊的性能在光催化、光電子、傳感器、納米發(fā)電機、太陽能電池和磁存儲等領(lǐng)域具有潛在的應(yīng)用前景,已成為當(dāng)前研究的前沿領(lǐng)域之一。其中,如何實現(xiàn)位置、尺寸、形貌可控的納米有序陣列的制備是一挑戰(zhàn)性難題。當(dāng)前,基于嵌段共聚物自組裝模板的嵌段共聚物蝕刻技術(shù),可制得尺寸達5~50nm的周期性納米結(jié)構(gòu)陣列,且過程簡單、易放大,更是受到學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的極大關(guān)注。
　　本文選取嵌段共聚物聚苯乙烯-b-聚(2-乙烯基吡啶

2、)(PS-b-P2VP)為模板,探索了一系列條件下納米粒子陣列的可控合成。首先,利用嵌段共聚物對不同溶劑的選擇性,在甲苯和THF中得到了不同周期的納米粒子陣列;探索了三種不同的方式引入金屬離子,如反轉(zhuǎn)旋涂法、質(zhì)子化浸泡法和混合旋涂法,通過改變引入金屬前驅(qū)體的濃度和種類獲得不同粒徑、不同種類的納米粒子陣列。進一步探索了不同基底,如硅基底、基于CD模板和DVD模板復(fù)制的PDMS印章上所得納米粒子陣列的規(guī)整性。最后,采用簡單的二次旋涂方式,通