新型氟氧玻璃紫外納秒激光損傷特性研究.pdf

1、光學(xué)元件的近紫外（355nm）納秒激光的損傷問題一直是限制激光技術(shù)往高能量高功率發(fā)展的瓶頸，因此研究光學(xué)元件的損傷機理，包括光學(xué)材料的表面損傷和體損傷，探討損傷增長規(guī)律與機理以及提高光學(xué)元件的抗激光損傷能力是高功率系統(tǒng)中需要解決的重要問題。
　　國內(nèi)外對熔石英損傷研究已經(jīng)有幾十年的歷史，然而對氟氧玻璃（OFG）的損傷問題的研究鮮有報道。本文中對氟氧玻璃的損傷研究會為材料損傷機理的研究注入新鮮的血液，對新型高損傷閾值材料的探索和研究

2、的意義深遠。
　　本文從光學(xué)材料的355nm納秒激光的損傷問題出發(fā)，采用對比原則，研究了氟氧玻璃和熔石英的表面損傷和體損傷，并對兩種材料的損傷形貌和損傷機理進行了分析；
　　探討了氟氧玻璃和熔石英的損傷增長，包括損傷增長閾值、損傷增長因子以及損傷增長與初始損傷尺度的關(guān)系，闡述了光學(xué)材料損傷增長機理；
　　研究了光學(xué)材料的吸收包括穩(wěn)態(tài)吸收、單波長瞬態(tài)吸收以及吸收引發(fā)的疲勞效應(yīng)，解釋了激光輻照氟氧玻璃的熒光現(xiàn)象，從氟氧玻璃