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文檔簡介
1、VO2在68℃左右能發(fā)生可逆的半導(dǎo)體金屬相變,伴隨著相變的發(fā)生,薄膜的光電磁性能都發(fā)生了很大的改變,這一特殊的性質(zhì)使其在實際生活中可以得到廣泛的運用。本論文采用磁控濺射的方法制備了氧化釩薄膜,對制得薄膜的光學(xué)性能(紅外透過率、折射率和消光系數(shù)等)和電學(xué)性能(方阻等)的變化進(jìn)行了研究,用X射線衍射,掃描電子顯微鏡等多種薄膜分析方法對制得的氧化釩薄膜的形貌和微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征。
在實驗中,通過優(yōu)化所使用的工藝條件,得到結(jié)構(gòu)與性能良
2、好的氧化釩薄膜材料。本論文主要研究了以下內(nèi)容:
?。?)在其他工藝條件相同的情況下,改變?yōu)R射時間(15分鐘,20分鐘,25分鐘,30分鐘)來制備氧化釩薄膜,發(fā)現(xiàn)對于不同的濺射時間,氧化釩薄膜在高溫和低溫時的紅外透過率的改變量可高達(dá)58%,薄膜的透射率對比因子可高達(dá)99%,氧化釩薄膜的相變溫度從66℃減下到50℃,對薄膜的折射率和消光系數(shù)進(jìn)行了擬合計算,得到了薄膜的厚度,對方阻的研究表明,薄膜的方阻隨濺射時間的增大而減小,薄膜的X
3、RD圖譜和SEM圖譜表明,濺射時間的不同對薄膜的結(jié)晶性和顆粒大小及其顆粒清晰度有很大的影響。
?。?)在其他工藝條件不變的情況下,通過改變氧氣的流量(3sccm,3.2sccm,3.6sccm)來制備氧化釩薄膜,發(fā)現(xiàn)隨著氧流量的不同,高溫和低溫時的紅外透過率改變可高達(dá)57%,而且透過率對比因子最高達(dá)到了88%,相變溫度降低到了54℃,對薄膜的X射線衍射圖譜進(jìn)行分析,結(jié)果表明薄膜在VO2(011)晶向具有明顯的擇優(yōu)取向生長,隨著通
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