氧化鈦薄膜的制備及釩摻雜對其特性影響的研究.pdf

1、非制冷紅外探測器一直以來都是紅外探測領域關注的焦點，作為探測器核心的熱敏材料的研究和探索就成為該領域的重中之重。近年來，氧化鈦薄膜（TiOx）由于其良好的熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性，寬禁帶、無毒、成本低、高折射率和制備方便等優(yōu)異性能已經(jīng)作為一種新型的熱敏材料這方面的應用開始受到關注。本論文基于氧化鈦薄膜的微觀結構和光電特性分別從理論和實驗兩方面對其進行了研究，采用直流反應磁控濺射方法在不同的工藝條件下制備了氧化鈦薄膜，研究了制備條件對氧化鈦薄

2、膜微觀結構和光電特性的影響和聯(lián)系。本論文的研究內(nèi)容主要有以下幾方面：
　?。?）研究濺射功率對薄膜微觀結構和宏觀特性的影響，結果表明：濺射功率對薄膜沉積速率影響較大、隨著功率提高薄膜沉積速率加快、薄膜結晶度越來越好、氧化鈦薄膜光學透過率減小、帶隙值減小。隨著濺射功率升高，濺射出的粒子能量高，導致顆粒在薄膜表面遷移率較高，從而使薄膜更加穩(wěn)定有序生長，提高了薄膜中載流子遷移率，進而使得薄膜電阻率降低；
　　（2）常溫下濺射制備氧

3、化鈦薄膜，分析氧化鈦薄膜的微觀結構和宏觀光電特性。實驗表明，常溫濺射制備的氧化鈦薄膜為非晶態(tài)結構，由于薄膜顆粒較小發(fā)生量子尺寸效應導致薄膜光學帶隙較大，相對于高溫濺射制備的結晶態(tài)薄膜出現(xiàn)藍移現(xiàn)象。由于非晶態(tài)的制備過程導致薄膜中缺陷較多，電子遷移率較低，薄膜電阻率高，但激活能低，電阻溫度系數(shù)（TCR）比高溫制備的氧化鈦薄膜??；
　　（3）對氧化鈦薄膜進行釩摻雜，研究釩摻雜對氧化鈦薄膜微觀結構和宏觀光電特性的影響。結果表明釩摻雜并未導