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文檔簡介
1、本文利用JGP-450型磁控濺射系統(tǒng)在玻璃基底上設(shè)計(jì)合成CZTS太陽能電池吸收層，通過X射線光電子能譜分析(XPS)和X射線衍射(XRD)等手段研究了薄膜的結(jié)構(gòu)特征，揭示CZTS太陽能電池吸收層的結(jié)構(gòu)與性能和工藝參數(shù)間的相互關(guān)系，找出合成CZTS太陽能電池吸收層的最佳工藝，使吸收層的結(jié)構(gòu)、組分都趨于理論計(jì)算值得大小。
本文實(shí)驗(yàn)在材料上選取研究相對(duì)較少的四元合金靶，在超高真空濺射系統(tǒng)下，利用射頻濺射在玻璃基片上制備CZTS吸收層
2、。討論了在選擇不同的濺射溫度，濺射氣壓，濺射時(shí)間的情況下，對(duì)材料性能和結(jié)構(gòu)的影響，通過X射線光電子能譜分析(XPS)分析元素的組分和X射線衍射(XRD)分析晶體的結(jié)構(gòu)，當(dāng)溫度為250℃，反應(yīng)時(shí)長為4h時(shí)，將得到最接近理論計(jì)算的晶體結(jié)構(gòu)和元素組成。
本文在用磁控濺射方法得到CZTS太陽能電池吸收層最佳實(shí)驗(yàn)參數(shù)方面有一定的分析結(jié)果，目前CZTS太陽能電池還處于起步階段，本研究有利于用最簡便的制作工藝得到性能最佳的太陽能電池吸收層，
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