多次沖擊加載下硅烷流體的導(dǎo)電特性研究.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、自從理論預(yù)言氫在高壓作用下可能發(fā)生金屬化相變甚至轉(zhuǎn)變?yōu)槌瑢?dǎo)體以來(lái),科學(xué)家對(duì)氫的金屬化相變問(wèn)題的研究從未間斷過(guò)。但是,沖擊動(dòng)高壓和靜態(tài)高壓金剛石壓腔(diamond-anvil cell,DAC)技術(shù)研究都證明,實(shí)現(xiàn)氫金屬化轉(zhuǎn)變所需的壓力會(huì)很高,合成條件非??量蹋y度極高。曾有人預(yù)測(cè)在,富氫化合物中非氫元素對(duì)氫元素產(chǎn)生的“化學(xué)預(yù)壓”效應(yīng),可能降低氫金屬化所需壓力。因此,有關(guān)富氫流體的高壓導(dǎo)電性研究引起人們的特別關(guān)注。
  本文采用二

2、級(jí)輕氣炮加載技術(shù)、低溫液化技術(shù)、以及光電監(jiān)測(cè)技術(shù),分別以恒流源和恒壓源兩種測(cè)試電路為電阻測(cè)量手段,在相對(duì)低壓區(qū)(7-56 GPa)獲得了硅烷的電阻率數(shù)據(jù)點(diǎn),這些新的數(shù)據(jù)正好分布在硅烷從絕緣體向半導(dǎo)體轉(zhuǎn)變的壓力區(qū)間。結(jié)合相關(guān)文獻(xiàn)中已報(bào)道的高壓區(qū)65-138 GPa硅烷電阻率數(shù)據(jù),本文比較系統(tǒng)地研究了在多次沖擊壓縮區(qū)(7-138 GPa)內(nèi)液態(tài)硅烷的導(dǎo)電特性,得出以下結(jié)論:
  1.在7-41 GPa沖擊壓縮區(qū)硅烷流體具有較好電絕緣性

3、。
  2.經(jīng)過(guò)分析lnρ~P圖中數(shù)據(jù)點(diǎn)分布特征,發(fā)現(xiàn)在41-138 GPa范圍內(nèi)硅烷電阻率隨壓力呈現(xiàn)出三段不同變化趨勢(shì)。lnρ~P曲線分別在52 GPa和105 GPa附近出現(xiàn)明顯拐折點(diǎn),表明硅烷流體在這兩個(gè)壓力點(diǎn)附近可能發(fā)生了結(jié)構(gòu)相變。我們推測(cè),在52GPa附近的拐點(diǎn)可能對(duì)應(yīng)硅烷由絕緣體向半導(dǎo)體轉(zhuǎn)變的相變壓力;在105 GPa附近,體系可能發(fā)生了分解反應(yīng),生成Si+H2+SiH4混合流體狀態(tài)。
  3.在硅烷中,硅元素的

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