鎂鋰合金中鋰含量對(duì)微弧氧化成膜的影響.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩72頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶(hù)提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、對(duì)于鎂鋰合金,不同鋰含量對(duì)應(yīng)的合金晶相不同,所以合金中鋰的含量對(duì)微弧氧化膜層成膜的影響有重要意義。針對(duì)此問(wèn)題,利用微弧氧化技術(shù),在Mg-5%Li合金、Mg-8%Li、Mg-11%Li合金和Mg-14%Li合金表面原位制備陶瓷膜層,對(duì)膜層的成膜過(guò)程進(jìn)行了研究。
  利用X射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、電子能譜儀(EDS)、分析膜層的物相及元素組成,觀察陶瓷膜層表面及截面形貌。利用電渦流測(cè)厚儀測(cè)量膜層厚度;利用TR2

2、00粗糙度儀測(cè)量膜層粗糙度。利用電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)觀察成膜過(guò)程中鋰元素的析出。
  在單組分硅酸鹽體系下,通過(guò)電解液濃度范圍的考察,確定了一組對(duì)四種基體均能穩(wěn)定成膜的工藝,比較了該工藝下四種基體成膜過(guò)程中隨氧化時(shí)間的增加,電壓、膜層厚度、膜層粗糙度以及膜層中的相組成、基體晶相組織、溶液中Li+濃度的變化規(guī)律。研究表明,四種基體微弧氧化過(guò)程基本一致。隨著鋰含量的增加,微弧氧化過(guò)程中電壓值下降。陶瓷膜層元素涵蓋電解液

3、及基體的主要成分,其中MgO和Mg2SiO4為主晶相;四種合金膜層中Mg2SiO4的生成時(shí)間相對(duì)為:α相+β相>β相>α相。在微弧氧化過(guò)程中四種基體均有 Li+的析出,析出含量次序位14%>11%≈8%>5%。說(shuō)明不同鋰含量的鎂鋰合金,鋰含量越多,微弧氧化過(guò)程中析出的鋰越多。并且11%Li、14%Li在微弧氧化過(guò)程中基體表層與膜層接界處發(fā)生基體晶相的轉(zhuǎn)變,即有β相(Li3Mg7)→α相(Li0.92Mg4.08)晶相轉(zhuǎn)變過(guò)程發(fā)生。

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶(hù)所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶(hù)上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶(hù)上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶(hù)因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論