聚吡咯和氧化石墨納米復(fù)合材料的制備及性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、導(dǎo)電聚合物/層狀無機(jī)物納米復(fù)合材料中由于層狀無機(jī)物片層和導(dǎo)電聚合物的納米復(fù)合,使得復(fù)合材料獲得了出色的熱學(xué)、電學(xué)、力學(xué)和電化學(xué)性能。因此,導(dǎo)電聚合物/層狀無機(jī)物納米復(fù)合材料已成為新型功能材料的主要研究方向之一。聚吡咯由于化學(xué)性能穩(wěn)定、合成容易以及導(dǎo)電率可調(diào)等特點,受到了廣泛的關(guān)注。
  本文采用了化學(xué)氧化合成法制備聚吡咯,考察了不同體系(酸性、水溶液體系)、氧化劑的濃度對聚吡咯的結(jié)構(gòu)和性能的影響,確立了制備具有較高導(dǎo)電性能的聚吡咯

2、的工藝方法和工藝條件。用修正后的Hummers法制備氧化石墨,采用原位聚合法制備聚吡咯/氧化石墨納米復(fù)合材料。系統(tǒng)的考察了表面活性劑(十六烷基三甲基溴化銨)與吡咯的摩爾比、過硫酸銨與吡咯的摩爾比、氧化石墨與吡咯的質(zhì)量比等工藝對聚吡咯/氧化石墨納米復(fù)合材料結(jié)構(gòu)和性能的影響。初步探討了PPy/GO納米復(fù)合材料在吸波性能方面的應(yīng)用。
  通過對復(fù)合材料進(jìn)行SEM、XRD、FT-IR、電導(dǎo)率、紅外發(fā)射率、電磁參數(shù)、反射損耗等測試,結(jié)果顯示

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