脫除焦化苯中噻吩用CeY吸附劑的再生性能研究.pdf

1、焦化苯是重要的化工原料,但所含的雜質噻吩因能引起金屬設備腐蝕、催化劑中毒以及污染環(huán)境而極大地限制了其進一步使用的范圍,因此必須對其進行深度脫硫凈化。吸附法脫硫技術因具有操作簡單、能耗低、設備投資小、脫硫精度高等優(yōu)點,被用于焦化苯中噻吩的深度脫除。該技術中,吸附劑的再生是其在工業(yè)生產中能否順利實施的關鍵環(huán)節(jié)之一。故本文在課題組前期研究工作的基礎上,對優(yōu)選出的脫除噻吩性能優(yōu)異的CeY分子篩吸附劑進行熱再生的行為考察,主要進行了操作的工藝條件

2、的優(yōu)化和再生機理的探討。
　　 首先考察了吸附純噻吩的CeY吸附劑(TY)的再生,分別在Ar、H2、O2和空氣氣氛下探討了再生溫度對TY再生行為的影響,并通過熱重、質譜、碳硫分析等表征手段,初步探討了不同氣氛、不同溫度下TY的再生機理。結果表明,TY在空氣氣氛、500℃下再生的效果最好,再生后其脫硫效率為94.02％,可達到新鮮吸附劑的94.67%。再生后吸附劑中碳和硫含量是影響吸附劑再生后脫硫性能的主要因素之一。再生溫度太低,

3、吸附劑碳和硫含量較高;再生溫度太高,則會破壞吸附劑的孔結構,這些都會造成其吸附性能下降。純O2氣氛下再生,吸附劑的結構破壞嚴重;H2氣氛下再生有利于吸附劑上S的釋放;Ar和空氣氣氛下再生吸附劑脫附的產物基本相同,但脫附溫度區(qū)間及產物的量有很大差別,其中空氣氣氛下再生的效果最好。
　　 在上述基礎上,進一步探討了再生溫度、空速、氧含量及再生時間對吸附了苯中噻吩的CeY吸附劑(TBY)再生的影響,優(yōu)化再生條件。結果表明,再生溫度是影