純鋁微弧氧化膜層性能的研究.pdf

1、微弧氧化技術(shù)是一種新型的表面處理技術(shù)，是在閥金屬表面通過(guò)微等離子體放電，進(jìn)行復(fù)雜的等離子化學(xué)、電化學(xué)和熱化學(xué)反應(yīng)，原位生成一層均勻絕緣的氧化陶瓷層的工藝，可極大地改善鋁及其合金的性能。
　　本文研究了電解液組分對(duì)鋁的微弧氧化膜層表面形貌、厚度、結(jié)合強(qiáng)度以及耐大氣腐蝕性能的影響。基于對(duì)負(fù)向電參數(shù)在膜層生長(zhǎng)中作用機(jī)理的探討，研究了負(fù)向電流密度以及負(fù)向占空比對(duì)成膜的影響規(guī)律。研究結(jié)果表明，在已得到的工藝參數(shù)基礎(chǔ)上，電解液中加入4.5mL

2、/LC3H8O3，溶液電導(dǎo)率為16.5mS/cm，負(fù)向電流密度為9A/dm2，負(fù)向占空比為30％的條件下，可得到膜層孔隙率低，表面質(zhì)量好，與基體結(jié)合良好以及耐大氣腐蝕的綜合性能較好的膜層。
　　通過(guò)對(duì)溶質(zhì)離子在微弧氧化過(guò)程中的作用機(jī)理研究表明：在微弧氧化反應(yīng)初期，溶質(zhì)離子促使鋁基體表面形成易失穩(wěn)的阻擋膜層；膜層生長(zhǎng)時(shí)，為膜層生長(zhǎng)的擊穿放電提供條件；在生長(zhǎng)后期，溶質(zhì)離子主要是為陶瓷膜生長(zhǎng)提供氧等膜層所需元素，最終生成陶瓷結(jié)構(gòu)的膜層。