一種用于雙成像光刻中的版圖分解算法.pdf

1、隨著集成電路制造工藝尺寸的迅速縮小，在使用現(xiàn)有的光刻技術(shù)時(shí)，光波將發(fā)生衍射，導(dǎo)致版圖圖形產(chǎn)生較大失真。目前雙成像光刻(double patterning，DP)技術(shù)是解決這一問題的最有效的方案之一。
　　在雙成像光刻中，一項(xiàng)必要的工作是版圖分解，即將版圖中多邊形分解為更簡單的圖形的集合。現(xiàn)有的多邊形分解算法不適合應(yīng)用于雙成像光刻，會(huì)產(chǎn)生工藝無法接受的薄片，覆蓋誤差會(huì)導(dǎo)致圖形斷開，與雙成像光刻中的版圖分解的目標(biāo)也不同。
　　本

2、文提出一種新的版圖分解算法，通過引入交疊，消除薄片的產(chǎn)生;同時(shí)解決由于覆蓋誤差引起的圖形斷開問題;減少分解后的矩形數(shù)目，從而減少雙成像光刻中顏色分配后的沖突總數(shù)，適合用于雙成像光刻技術(shù)。
　　首先，介紹雙成像光刻技術(shù)和多邊形分解算法的背景概況，從而提出本文的版圖分解算法和主要貢獻(xiàn)。通過比較和現(xiàn)有的各種算法分別對版圖中常見的一些多邊形例子進(jìn)行分解的情況，從而說明本文的算法優(yōu)勝的方面。
　　然后，對本文算法針對的分解問題進(jìn)行限定