SiO2-TiO2-基片減反膜系的制備研究.pdf

1、現(xiàn)代光學(xué)工程中,光學(xué)薄膜具有重要地位,可以說(shuō),沒(méi)有光學(xué)薄膜,就沒(méi)有當(dāng)今許多復(fù)雜的、高性能的光學(xué)儀器、光電子器件以及各種光電系統(tǒng),減反射薄膜又是光學(xué)薄膜中最重要的一種。本論文在對(duì)減反射薄膜設(shè)計(jì)及優(yōu)化的基礎(chǔ)上重點(diǎn)研究了其制備工藝。以玻璃為基底進(jìn)行減反射薄膜的膜系設(shè)計(jì),并且對(duì)SiO2、TiO2單層膜的制備工藝進(jìn)行了大量的實(shí)驗(yàn)研究,確定了最佳工藝參數(shù)。
　　 論文首先介紹了減反射薄膜的應(yīng)用,并結(jié)合其發(fā)展現(xiàn)狀對(duì)其未來(lái)發(fā)展方向進(jìn)行展望。

2、r>　　 目前我國(guó)光學(xué)薄膜優(yōu)化設(shè)計(jì)工作還處于探索階段,光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)是薄膜技術(shù)發(fā)展的一個(gè)基礎(chǔ)環(huán)節(jié)。在減反射薄膜的設(shè)計(jì)中,作者從薄膜減反射原理和光學(xué)薄膜電磁場(chǎng)理論出發(fā),利用MATLAB得出減反射膜系的設(shè)計(jì)結(jié)果及反射率特性曲線。理論透過(guò)率在可見(jiàn)光波長(zhǎng)范圍內(nèi)可以達(dá)到99％以上,并根據(jù)優(yōu)化的理論膜系進(jìn)行了樣品膜系的制備。根據(jù)優(yōu)化結(jié)果,選用折射率為1.52的玻璃為基底,并采用磁控濺射方法制備了SiO2／TiO2膜系,并分別研究了沉積工藝參數(shù)對(duì)單

3、層SiO2和TiO2薄膜光學(xué)性能的影響。
　　 在磁控濺射工藝研究時(shí),分別分析了工作真空度、氧氣含量、退火溫度等工藝參數(shù)對(duì)薄膜的光學(xué)性能及結(jié)構(gòu)的影響。分析結(jié)果表明氧氣含量對(duì)TiO2薄膜的折射率影響很大,制備TiO2薄膜的反應(yīng)氣體和工作氣體O2／Ar比為1／5時(shí),可制備出折射率符合設(shè)計(jì)要求的TiO2薄膜。另外工作真空度、退火溫度也都是薄膜光學(xué)性能的重要影響因素。
　　 最后,測(cè)量了單層SiO2和TiO2薄膜的折射率,用分光