摻雜Ce3+的復合氟化物的制備與熒光性能研究.pdf

1、本文采用共沉淀法合成納米復合氟化物KLaF4和KCeF4，用水熱法合成納米復合氟化物KYF4，BaLaF5，BaCeF5和BaYF5，研究了反應(yīng)物的選擇及配比、反應(yīng)時間、反應(yīng)溫度對產(chǎn)物的影響。利用X射線衍射(XRD)，透射電子顯微鏡(TEM)， X射線能譜儀(EDS)等技術(shù)對其結(jié)構(gòu)、形貌、粒徑大小以及元素種類進行了表征。結(jié)果表明，共沉淀法和水熱法在適當?shù)臈l件下均能合成單一相結(jié)構(gòu)的納米復合氟化物。這兩種方法具有工藝簡單、不腐蝕設(shè)備、不需要

2、煅燒即可產(chǎn)生晶相等優(yōu)點，因而有著廣闊的應(yīng)用前景。
　　本文利用共沉淀法與水熱法共合成了四種摻雜鈰離子的復合氟化物KLaF4:Ce3+，KYF4:Ce3+，BaLaF5:Ce3+和BaYF5:Ce3+。經(jīng)XRD測試表明它們衍射峰的位置及相對強度都與未摻雜的基質(zhì)是一致的，沒有其它雜質(zhì)峰的出現(xiàn)，表明產(chǎn)物為單一相，摻雜少量稀土離子并未使晶體結(jié)構(gòu)發(fā)生明顯變化。
　　通過對KLaF4:Ce3+，KYF4:Ce3+，BaLaF5:Ce3+

3、和BaYF5:Ce3+的熒光光譜分析發(fā)現(xiàn)：KLaF4:Ce3+的發(fā)射光譜中發(fā)射峰從300nm延展到500nm，最大發(fā)射峰位于355nm，KYF4:Ce3+的發(fā)射光譜中發(fā)射峰從300nm延展到500nm，最大發(fā)射峰位于340nm，BaLaF5:Ce3+的發(fā)射光譜中發(fā)射峰從320nm延展到420nm，最大發(fā)射峰位于352nm，BaYF5:Ce3+的發(fā)射光譜中發(fā)射峰從290nm延展到450nm，最大發(fā)射峰位于336nm，都屬于Ce3+的5d→