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1、21世紀(jì)的技術(shù)要求器件小型化甚至小至納米尺寸,而其最終的性能要顯著增強(qiáng)。這一要求帶動(dòng)了納米材料的快速發(fā)展。納米材料獨(dú)特的性質(zhì)和優(yōu)異的性能由其尺寸、表面結(jié)構(gòu)及粒子間的相互作用決定。在眾多的納米材料中,ZnO作為一種直接寬禁帶(3.37 eV)半導(dǎo)體材料而備受關(guān)注。ZnO是一種Ⅱ-Ⅵ族化合物,具有低介電常數(shù)、高化學(xué)穩(wěn)定性等許多優(yōu)點(diǎn),在透明導(dǎo)電薄膜、氣體傳感器和聲表面波器件等方面有著廣泛用途。本論文以ZnO薄膜和納米四腳狀晶須(T—ZnOw)
2、為研究對(duì)象,對(duì)其進(jìn)行制備、表征和分析。
在利用脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)制備ZnO薄膜時(shí),濺射成本較低的金屬鋅靶,成功的實(shí)現(xiàn)了低溫生長(zhǎng)高質(zhì)量 ZnO薄膜的目的。T—ZnOw的制備是通過兩步來完成的:第一步是在PLD系統(tǒng)中沉積參與 T—ZnOw生長(zhǎng)的鋅薄膜和氧化鋅薄膜;第二步是在擴(kuò)散爐中蒸發(fā)鋅粉生長(zhǎng) T—ZnOw。從實(shí)驗(yàn)角度上來看,PLD沉積系統(tǒng)能夠使鋅薄膜和氧化鋅薄膜均勻生長(zhǎng),且保持原子級(jí)的清潔,這為理論上研究鋅薄膜和氧化鋅薄
3、膜在T—ZnOw生長(zhǎng)中的作用提供了有利的前提。主要內(nèi)容如下:
1、詳細(xì)介紹 ZnO薄膜和T—ZnOw的性質(zhì)及應(yīng)用。系統(tǒng)總結(jié)了利用XRD衍射峰計(jì)算晶粒尺寸和殘余應(yīng)力的理論方法,并對(duì)制備的ZnO薄膜的晶粒度及殘余應(yīng)力進(jìn)行計(jì)算和分析。納米晶須的生長(zhǎng)機(jī)制一直是納米材料領(lǐng)域的難點(diǎn),我們結(jié)合實(shí)驗(yàn)結(jié)果,對(duì)其進(jìn)行了系統(tǒng)的討論。
2、研究濺射金屬鋅靶沉積 ZnO薄膜時(shí),襯底溫度對(duì)ZnO薄膜質(zhì)量的影響。對(duì)在不同溫度下沉積的ZnO薄膜進(jìn)行
4、了XRD、TEM、FTIR測(cè)試。測(cè)試結(jié)果表明襯底溫度在300℃的時(shí)候,晶粒尺寸最大,薄膜內(nèi)部殘余應(yīng)力最小,薄膜結(jié)晶質(zhì)量最好,形成結(jié)晶取向一致的單晶薄膜,并對(duì)影響薄膜結(jié)晶質(zhì)量的因素進(jìn)行討論。ZnO薄膜的Zn-O鍵伸縮振動(dòng)特征吸收的峰位置依賴于薄膜的晶粒尺寸。大的晶粒尺寸會(huì)導(dǎo)致傅里葉紅外吸收峰發(fā)生藍(lán)移,反之發(fā)生紅移。
3、研究鋅薄膜和氧化鋅薄膜對(duì)T—ZnOw的形貌及結(jié)晶的重要影響。研究有鋅薄膜和氧化鋅薄膜參與生長(zhǎng)的T—ZnOw,同
5、時(shí)與在藍(lán)寶石襯底上直接生長(zhǎng)的T—ZnOw進(jìn)行對(duì)比。實(shí)驗(yàn)結(jié)果通過XRD、SEM、TEM、HRTEM測(cè)試發(fā)現(xiàn),鋅薄膜和氧化鋅薄膜對(duì)T—ZnOw的形貌和結(jié)晶有重要影響。有金屬鋅薄膜參與的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)尺寸均勻一致,產(chǎn)量較高,呈現(xiàn)六棱柱狀的腳,結(jié)晶質(zhì)量很好;有氧化鋅薄膜參與的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)尺寸均勻一致,產(chǎn)量較高,結(jié)晶質(zhì)量較好,呈現(xiàn)錐形的腳;對(duì)于沒有鋅薄膜和氧化鋅薄膜而直接生長(zhǎng)的T—ZnOw,結(jié)構(gòu)尺寸不均勻,結(jié)晶質(zhì)量也不好。通過分析,發(fā)現(xiàn)鋅薄膜和氧化鋅薄膜會(huì)
6、導(dǎo)致 T—ZnOw按照不同的生長(zhǎng)機(jī)制生長(zhǎng),所以我們得到結(jié)構(gòu)、結(jié)晶質(zhì)量差異很大的氧化鋅納米四腳晶須。
4、通過增加鋅粉的質(zhì)量來提高生長(zhǎng)氣氛中的氣相飽和度,研究鋅蒸氣飽和度對(duì)T—ZnOw的重要影響。對(duì)生成物進(jìn)行了SEM、TEM、XRD測(cè)試發(fā)現(xiàn),高的氣相過飽和度增加了晶須側(cè)面捕捉氣相原子的幾率,導(dǎo)致 T—ZnOw的側(cè)面生長(zhǎng),所以得到葉片狀腳的空間四腳結(jié)構(gòu)。
5、對(duì)有金屬鋅薄膜參與生成的T—ZnOw進(jìn)行光致發(fā)光測(cè)試,研究其光
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