莠去津分子印跡聚合物及印跡復合膜的制備及性能研究.pdf

1、分子印跡技術是指制備對目標分子具有專一選擇性識別能力的高分子材料的一種技術。這種高分子材料具有制備過程簡單、物理和化學性質穩(wěn)定、應用范圍廣泛。分子印跡技術在環(huán)境領域農(nóng)藥監(jiān)測和分離方向已有報道。本文以莠去津為模板分子，α-甲基丙烯酸為功能單體，在氯仿溶劑中合成了莠去津分子印跡聚合物。紫外光譜研究表明莠去津與功能單體α-甲基丙烯酸之間確實存在作用力。通過紅外光譜研究，分析了聚合物結構，可以確定模板分子與功能單體之間的作用力為氫鍵。優(yōu)化了功能

2、單體用量，并利用透射電鏡表征了溶劑用量和交聯(lián)劑用量對印跡聚合物微觀形貌的影響，綜合利用平衡結合實驗考察了不同溶劑用量和交聯(lián)劑用量下聚合物的結合性能。結果表明聚合物最大結合量達到42.6μmol/g。最終確定了制備莠去津分子印跡聚合物的模板分子、功能單體、交聯(lián)劑以及溶劑的最佳配比為1:4:20:25。同時本文討論了分子印跡聚合物對模板分子的結合能力以及對其結構類似物西瑪津及萘普生的吸附效果，結果顯示印跡聚合物對莠去津的吸附量明顯高于西瑪津

3、，萘普生的吸附，表現(xiàn)出良好的選擇識別性。
　　 本文的另一部分內容是在前期工作的基礎上，利用表面修飾聚合的方法制備了以三嗪類除草劑莠去津為模板，MAA為功能單體，聚丙烯為支撐膜的莠去津分子印跡復合膜。利用掃描電鏡觀察了聚丙烯膜及不同分子印跡復合膜的表面形貌；膜通量實驗測試了不同分子印跡復合膜的純水通量；通過BET研究分析了印跡復合膜的比表面積和孔徑；平衡結合實驗驗證了分子印跡復合膜對莠去津具有識別性能，其最大結合量為22.05μ