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1、銻化鎵作為重要的III-V族半導(dǎo)體材料,擁有高的空穴遷移率850 c m2/Vs和合適的帶隙(0.7 eV)被用來(lái)制作光探測(cè)器件,尤其是高速響應(yīng)的紅外光探測(cè)器件。銻化鎵屬于低阻抗高遷移率材料,用銻化鎵納米線作光探測(cè)器材料,其靈敏度和探測(cè)率等性能相對(duì)較高,適合探測(cè)光強(qiáng)較小的可見光和近紅外光。
同樣是銻屬化合物的硫化銻納米線也是很好的光電子材料,擁有帶隙(1.5~2.2 eV)能探測(cè)近紫外到近紅外的光,可以作為寬光譜探測(cè)應(yīng)用。硫化
2、銻屬于高阻抗材料低遷移率材料,用硫化銻納米線作光探測(cè)器材料,其光開關(guān)穩(wěn)定性能相對(duì)較好,適合探測(cè)不同光強(qiáng)的紫外光至近紅外光范圍。但器件的響應(yīng)度和靈敏度等性能不如銻化鎵,因此通過(guò)改進(jìn)器件的結(jié)構(gòu),可以使得性能得到提升。
本論文的主要內(nèi)容包括如下兩方面:
1.采用化學(xué)氣相沉積法在硅基底上生長(zhǎng)銻化鎵納米線,并在硅/二氧化硅基底上制備基于單根銻化鎵納米線的光探測(cè)器件。通過(guò)性能測(cè)試發(fā)現(xiàn),制作好的器件展現(xiàn)出極高的靈敏度,快速的響應(yīng)速
3、度以及穩(wěn)定的開關(guān)特性。在波長(zhǎng)700 nm、光強(qiáng)度0.2 mW/c m2的光照下,顯示出光響應(yīng)度為295 A/W,響應(yīng)時(shí)間為80 ms。而基于柔性基底上的光探測(cè)器,顯示出可比擬硅/二氧化硅基底上的性能并且擁有更低的暗電流。同樣條件下的光照時(shí),柔性探測(cè)器的探測(cè)率達(dá)到9.7×109瓊斯,等效噪聲功率達(dá)到2.0×10-12W/Hz1/2。
2.同樣使用簡(jiǎn)單的化學(xué)氣相沉積法制備出單晶結(jié)構(gòu)高質(zhì)量的硫化銻納米線,并對(duì)硫化銻納米線進(jìn)行金納米顆
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